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超高真空离子辅助原子级界面低温键合系统
我有意向
2023-08-22 浏览:2471
技术分类:
电子信息 新型电子元器件
关键字:
转让方式:
完全转让 面议
知识产权状态:
发明专利
专利名称:
专利号:
技术水平:
国内领先
是否成交:
未成交
新兴产业:
新一代信息技术
联系电话:
15288990246
成果所在单位:
西安交通大学
单位类型:
高等院校
联系人:
周国勇
所在区域:
陕西  西安  碑林区
技术简介
评估价值
技术图片
成熟度证明
成果水平评价图片
一、项目简介
随着功率电子器件、集成电路芯片及新型光电集成芯片的发展,纳米集成与
封装、异构集成成为当前的研究热点之一。本产品主要应用于功率电子器件、集
成电路芯片及新型光电集成芯片的纳米集成、电子封装和异构集成,克服了传统
芯片键合中的中间键合层(TIM)太厚(微米级)所导致的界面热阻过大、热应
力集中和集成度降低等弊端,从而影响功率电子器件与集成电路芯片性能的发挥。
本项目采用超高真空环境,避免了环境因素对键合界面的影响;采用离子辅
助表面清洁与原子层沉积技术相结合,从而实现原子级界面键合,使得界面键合
层从微米级降到纳米级,从而大幅降低了异构集成器件的界面热阻和热应力集中,
提高了系统集成度和性能 (输出功率、更高的工作频率、可靠性)。可以实现半导
体与半导体、金属与半导体、金属与非金属的键合。本设备系统主要包括超高真空系统、样品传递系统、样片离子清洁系统和原
子级键合系统,同时可以集成其他表面测试系统对键合界面进行原位表征。
二、产品性能优势
晶圆键合技术已广泛应用到微电子、光电子和微机械等领域。目前已经制备
出可见光 LED、长波长激光器、Si 基 InGaAs 雪崩光电二极管、谐振腔型探测器
等众多高性能的光子器件以及 MOEMS 器件、OEIC、集成光隔离器、高效太阳
能电池等光电子器件。上述器件同样也可以通过低温晶片键合技术来制备。优势
在功率半导体、光电集成芯片的键合,比如汽车芯片、通信模块(5G\6G)、军
工芯片等明显。
三、市场前景及应用
据中国电子专用设备工业协会统计,2020 年集成电路设备总销售收入为
96.77 亿元,同比增长 59.0%。不过,国产设备在全球范围内市场占有率仍然较低,且在国内的市占率提升缓慢。2020 年中国半导体设备(56 家)在全球市场
占有率仅为 5.2%,在中国大陆市场占有率也只有 17.3%,与 2019 年基本相同。
市场研究公司的数据,预计 2026 年,全球晶圆键合机市场规模将达到约 35
亿美元。其中,亚太地区是晶圆键合机市场的主要增长驱动力,占据了市场份额
的最大比例。全球范围内,晶圆永久键合机核心厂商主要包括 EV Group、SUSS
MicroTec、Tokyo Electron、AML 和 Mitsubishi 等。
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